瑞澤RZ-QYC大流量高純度氫氣純化裝置

  • 起訂量
    價格
  • 1~5
    ¥80000/臺
  • ≥6
    ¥78000/臺
  • 產品名稱氫氣純化裝置
  • 產品品牌瑞澤凈化
  • 總供應量380臺
基本信息:
  • 加工定制
    型號
    RZ-QYC
詳細信息:

QYC-Ⅱ型氫氣純化裝置

一、工作原理
化工廠馳放出的氫氣內含有少量的堿,lv氣,氧氣,氮氣和水分,這種氫氣對生產石英玻璃工藝及產品質量有較大的影響。要利用它,就需要采取提高氫氣純度的辦法;由于氫氣中含有少量氮氣不影響生產石英玻璃工藝及產品的質量,所以只需脫除該氫氣中含有的堿,綠氣,氧氣和水分,這樣就提高了氫氣的純度,滿足了生產的需要。

流程簡介:化工廠輸出的原料氫氣經過脫堿、脫水系統脫除堿離子和游離子水;經過脫氯系統,脫除氫氣中含有的綠氣;經過脫氧、干燥系統,脫除掉氫氣中的氧氣、水份以及碳化合物等;最后經過精密過濾器,濾除掉氫氣中含有的部分鐵離子等顆粒,最后純氫送至使用。

二、技術指標

1. 處理氣量: 1~3000Nm3/h

2. 原氫純度: ≥99.7%

3.工作壓力: ≤0.6MPA

4.原料氣雜質含量:Cl2<100ppm 、 O2<2000ppm 、

含有部分堿及鐵離子 、飽和的水份等。

5.純化后: 氫氣純度 ≥ 99.99%

Cl2 ≤ 3 ppm

O2 ≤ 1 ppm

H2O ≤ -650C ppm

三、用途:

氫氣是主要的工業原料,也是最重要的工業氣體和特種氣體,本公司凈化設備能把工業瓶裝氫氣凈化得到高純氫、超高純氫。高純氫氣廣泛應用于石油化工、電子工業、電子半導體、冶金工業、機械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產業部門和科學研究中、生產部門亦可作為熱處理保護氣體以及精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。例如本機已在精密合金熱處理、航天航空、半導體硅材料、硅外延、化合物半導體等的生產中的應用,效果都很好。

設備特點
1、對原料氫氣要求不高,允許雜質氧含量高達3000ppm;
2、本純化器的催化劑活性高,吸附劑容量大,因此,用戶選用廉價的工業氫氣作氣源也能達到要求,同時也可降低生產成本。
3、本純化器屬于催化再生式,使用失效后可通過反復再生長期使用。
4、本機為雙式結構,一組工作,另一組可以再生備用,而且工作和再生可以同時進行,故能長期連續供氣,即一臺能頂兩臺單式純化器使用。
5、本機采用不銹鋼波紋管閥門,幾乎零泄漏,故設備安全性更高。

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